学位論文要旨
No
101421
著者（漢字）
内野倉,国光
著者（英字）
著者（カナ）
ウチノクラ,クニミツ
標題（和）
シリコンにおけるイオン化した不純物対の緩和過程
標題（洋）
報告番号
101421
報告番号
甲01421
学位授与日
1967.03.29
学位種別
課程博士
学位種類
工学博士
学位記番号
博工第86号
研究科
工学系研究科
専攻
応用物理学専攻
論文審査委員
─：
内容要旨
データはありません
審査要旨
データはありません
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