学位論文要旨
No
109740
著者（漢字）
洪,儒生
著者（英字）
著者（カナ）
ホン,ルーシェン
標題（和）
CVD(Chcmical Vapor Dcposition)反応における気相中間体及びクラスターの役割とその制御 -Si_2ll_6/C_2ll_2反応系によるSiC_x膜、Cul/O_2反応系によるCuO_x膜の合成-
標題（洋）
Role and Control of Gas-Phase Intermediate and Cluster in Chemical Vapor Deposition Reaction System -SiC_x Films from Si_2ll_6/C_2ll_2 and CuO_xFilms from Cul/O_2-
報告番号
109740
報告番号
甲09740
学位授与日
1992.09.30
学位種別
課程博士
学位種類
博士(工学)
学位記番号
博工第2924号
研究科
工学系研究科
専攻
化学工学専攻
論文審査委員
─：
内容要旨
データはありません
審査要旨
データはありません
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