| No | 211190 | |
| 著者（漢字） | 草野,英二 | |
| 著者（英字） | Kusano,Eiji | |
| 著者（カナ） | クサノ,エイジ | |
| 標題（和） | 反応性スパッタリングによるTiO_2形成プロセスの解析 | |
| 標題（洋） | Analysis of Reactive Sputtering Deposition Process of TiO_2 Films | |
| 報告番号 | 211190 | |
| 報告番号 | 乙11190 | |
| 学位授与日 | 1993.03.18 | |
| 学位種別 | 論文博士 | |
| 学位種類 | 博士(工学) | |
| 学位記番号 | 第11190号 | |
| 研究科 | 工学系研究科 | |
| 専攻 | 物理工学専攻 | |
| 論文審査委員 | ||
| 内容要旨 | データはありません | |
| 審査要旨 | データはありません | |
| UTokyo Repositoryリンク | http://hdl.handle.net/2261/50635 |